 
      
      chemical vapor deposition cvd coating furnace (18) Ηλεκτρονικός κατασκευαστής
Θέρμανση διαδικασίας (°C): 700-1050
Τύποι επικάλυψης: ΤΙΚΙΣΤΙΝ ΤΙΚΙΝ Α-ΑΛ2Ο3 Κ-ΑΙ2Ο3
Θερμοκρασία επιστρώματος: 200-1050℃
Σύστημα ψύξης: Δύο σετ υψηλής απόδοσης καταπατητών συμπυκνωμένου ψύξης με νερό
Θέρμανση διαδικασίας (°C): 700-1050
Προκαταρκτικά και αέρια διεργασίας: Το TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Θέρμανση διαδικασίας (°C): 700-1050
Προκαταρκτικά και αέρια διεργασίας: Το TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Θέρμανση διαδικασίας (°C): 700-1050
Προκαταρκτικά και αέρια διεργασίας: Το TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Θέρμανση διαδικασίας (°C): 700-1050
Προκαταρκτικά και αέρια διεργασίας: Το TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Ενεργός χώρος (mm): 1000*1000*1500
Δύναμη θέρμανσης ((KVA): 300
Συσκευασία λεπτομέρειες: ξύλινες θήκες
Χρόνος παράδοσης: 5-6 μήνες
Συνολική ισχύς: Περίπου 40/50/60/80KW
Υπόστρωμα επικάλυψης: Μεταλλικό, κεραμικό, γυαλί, κλπ.
Θέρμανση διαδικασίας (°C): 700-1050
Τύποι επικάλυψης: ΤΙΚΙΣΤΙΝ ΤΙΚΙΝ Α-ΑΛ2Ο3 Κ-ΑΙ2Ο3
Μέθοδος επικάλυψης: Χημική εναπόθεση ατμών (CVD)
Συνολική ισχύς: Περίπου 40/50/60/80KW
Ενεργός χώρος (mm): 1000*1000*1500
Δύναμη θέρμανσης ((KVA): 300
Ζώνη θέρμανσης: 4pcs/5pcs
Μέγιστη θερμοκρασία:: 1100℃
Packaging Details: Wooden cases
Delivery Time: 5-6 months
Ενεργός χώρος (mm): 1000*1000*1500
Δύναμη θέρμανσης ((KVA): 300
Στείλτε το αίτημά σας απευθείας σε εμάς