Name: Φούρνος επικάλυψης CVD από καρβίδιο του πυριτίου για την ανάπτυξη ημιαγωγών epi
Uploaded: 2026-02-11CST00:06:47-06:00
Duration: 33 s
Description: Discover the HTCVD Silicon Carbide CVD SIC Epitaxy Growth Furnace, designed for high-performance semiconductor epi growth. Featuring multiple temperature control zones, this furnace ensures uniform coating and rapid deposition rates up to 50 microns per hour. Ideal for carbon-based and ceramic-based materials, it’s engineered for efficiency and precision in semiconductor manufacturing.

συζήτηση Μας ελάτε σε επαφή με

Φούρνος επικάλυψης CVD από καρβίδιο του πυριτίου για την ανάπτυξη ημιαγωγών epi

Άλλα Βίντεο

November 05, 2024

Keyword: CVD μηχανή επιστρώματος

συζήτηση Μας ελάτε σε επαφή με

Ετικέτες:

#Ενσωματωμένη CVD μηχανή επιστρώματος #Ένδυση - ανθεκτική CVD μηχανή επιστρώματος #CNC CVD εργαλείων καρβιδίου εξοπλισμός επιστρώματος

Video Description:

Discover the HTCVD Silicon Carbide CVD SIC Epitaxy Growth Furnace, designed for high-performance semiconductor epi growth. Featuring multiple temperature control zones, this furnace ensures uniform coating and rapid deposition rates up to 50 microns per hour. Ideal for carbon-based and ceramic-based materials, it’s engineered for efficiency and precision in semiconductor manufacturing.

Σχετικά βίντεο

00:18

6MPA 5518 Φούρνος συντριβής υπό πίεση αερίου υπό κενό

Φούρνος ΙΣΧΙΩΝ πυροσυσσωματώματος

April 07, 2025